«ASML hat noch nie eine EUV-Maschine nach China geliefert», erklärte der Konzern am Freitag auf Anfrage der Nachrichtenagentur Reuters. Auch seien keine speziell für den Einsatz in einer solchen Extreme Ultraviolet Lithography (EUV)-Anlage entwickelten Komponenten, Module oder Geräte nach China geliefert worden. Zuvor hatte die Nachrichtenagentur Bloomberg gemeldet, US-Handelsminister Howard Lutnick habe Bedenken geäussert, dass eine EUV-Lithografie-Anlage von ASML unter Verletzung der von den USA geführten Exportbeschränkungen nach China gelangt sein könnte. ASML erklärte, man habe das Geschäft stets an neue Exportkontrollregeln angepasst.
Das niederländische Aussenministerium teilte mit, für den Export von Anlagen zur Halbleiterherstellung gebe es klare Regeln. Alle Ausrüstungen, Komponenten und Technologien, die ausdrücklich unter diese Regeln fielen, benötigten eine Lizenz. Diese Politik werde sehr streng durchgesetzt. Die US-Regierung hatte im April ein Gesetz vorgeschlagen, das von den Verbündeten eine Anpassung an ihre Exportkontrollen verlangt. Damit soll Chinas Fähigkeit zur Herstellung moderner Halbleiter eingeschränkt werden. In dem Gesetzentwurf wurden Anlagen von ASML namentlich genannt. Reuters hatte im Dezember berichtet, dass chinesische Wissenschaftler einen Prototyp einer EUV-Anlage entwickelt haben. An dem Projekt sollen ehemalige ASML-Ingenieure beteiligt gewesen sein.
(Reuters)
